紫外臭氧清洗设备,具有40x40cm超大有效照射区,专为半导体、光学器件及科研领域设计,可实现材料表面的高效干式清洗与改性。设备采用185nm与254nm双波段紫外光协同臭氧作用,常温下快速分解有机污染物,清洗过程无接触、无损伤。
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