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DM200桌面式蒸发镀膜系统

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用于真空蒸发镀光学薄膜、有机物薄膜和金属薄膜。特别适合于高科技企业、科研单位和高校用于膜层研究和膜系开发。

系统主要参数

真空室:Q220mm*H380mm;

最大可镀工件直径:60*60mm,配抽拉式样品台,样品可旋转;样品台配挡板;

极限真空度:8*10-5Pa(分子泵系统);

抽气时间:大气压~6*10-4Pa小于30min(分子泵系统);

蒸发源:可配备1~2组金属或有机蒸发源;

开启方式:正面开门结构,便于换丝及装料

真空系统:分子泵+机械泵;

水冷循环系统0.5P;

控制系统可选手动或触摸屏自动控制。


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